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    美商务部再禁6项新兴技术,包括光刻软件和5nm生产技术

      来源:网易科技      作者:    发布时间:2020-10-26

    1025日消息,美国商务部工业安全局(BIS)又对六项新兴技术实施了管控,宣布将六项新兴技术添加到《出口管理条例》(EAR)的商务部管制清单(CCL)中。这其中包括了极紫外线(EUV)掩模的计算光刻技术软件和5nm生产精加工芯片的技术,两条直指了对芯片的制造的封锁。

    据了解,目前受到出口管制的新兴技术总数已经达到了37项。美国商务部在官网发布公告中写道:“此举是为了支持关键及新兴技术这一国家战略”。

    本次被增列商业管制清单的六项新兴技术为:混合增材制造/计算机数控工具、特定的计算光刻软件、用于为5nm生产精加工晶圆的某些技术、有限的数字取证分析工具、用于监测电信服务通信的某些软件、亚轨道航天器。

    目前全世界唯一能生产EUV光刻机的企业只有荷兰ASML公司,而ASML最大的两大股东资本国际集团和贝莱德集团都是美国公司,其用于打造EUV光刻机的高精技术也有不少为美国所持有。美国商务部此举相当于直接封锁了高端芯片的制造技术,从目前来看,中国作为美国芯片产品最大的采购国之一,受出口管制影响是巨大的。

    美国实施出口管制的六大技术,都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关,尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品,EUV光刻机在半导体制程的重要意义可想而知。

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