10月25日消息，美国商务部工业安全局（BIS）又对六项新兴技术实施了管控，宣布将六项新兴技术添加到《出口管理条例》（EAR）的商务部管制清单（CCL）中。这其中包括了极紫外线（EUV）掩模的计算光刻技术软件和5nm生产精加工芯片的技术，两条直指了对芯片的制造的封锁。
据了解，目前受到出口管制的新兴技术总数已经达到了37项。美国商务部在官网发布公告中写道：“此举是为了支持关键及新兴技术这一国家战略”。
本次被增列商业管制清单的六项新兴技术为：混合增材制造/计算机数控工具、特定的计算光刻软件、用于为5nm生产精加工晶圆的某些技术、有限的数字取证分析工具、用于监测电信服务通信的某些软件、亚轨道航天器。
目前全世界唯一能生产EUV光刻机的企业只有荷兰ASML公司，而ASML最大的两大股东资本国际集团和贝莱德集团都是美国公司，其用于打造EUV光刻机的高精技术也有不少为美国所持有。美国商务部此举相当于直接封锁了高端芯片的制造技术，从目前来看，中国作为美国芯片产品最大的采购国之一，受出口管制影响是巨大的。
美国实施出口管制的六大技术，都与芯片制造中最重要的设备光刻机息息相关，尤其是当下5nm芯片已成为高端芯片时代的主流产品，EUV光刻机在半导体制程的重要意义可想而知。
